什么是溅射靶材？
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。. . . 阅读全文
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磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。. . . 阅读全文
靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。如 Ic 制造商．近段时间致力于低电阻率铜布线的开发，预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜，这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。 另外，近年来平面显示器（ FPD ）大幅度取代原 以阴极射线管（ C. . . 阅读全文
1、微电子领域 在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是很苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。 2、显示器用 平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视. . . 阅读全文
1、防止靶材受热不匀碎裂，例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材； 2、节省成本，防止变形，如靶材太贵，可将靶材做薄些，绑定背靶以防止变形。 . . . 阅读全文
ITO材料是一种n型半导体材料，该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为平板显示器(FPD)产业，如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)等离子显示器(PDP)等。. . . 阅读全文
ITO靶焊接简述： 1.靶材焊接面金属化处理； 2.铜背板预处理，打磨，清洗； 3.靶材、铜背板一同置于加热台均匀升温； 4.温升至焊接材料铟刚好融化时，先涂布少量铟于铜背板，后用安装了钢丝刷的角磨机打磨； 5.靶材焊接面金属化处理面涂布少量铟；（工具：钢丝刷，油灰刀） 6.背板再涂布适. . . 阅读全文
不同靶材产生的X线波长不同，根据需要选择，软X线设备大多使用钼靶，普通X线设备大多使用钨靶。不同材料比热和散热率不同，价格区别也很大，靶基材料根据需要选择，大都用铜、钨、钼或石墨等。. . . 阅读全文
钼靶材可以用绿碳化硅砂轮，或者金刚石砂轮磨削。. . . 阅读全文
半导体镀膜用靶材主要有W、WTi合金、Ti、Ta、Al、Cu、Au、Pt等。 半导体镀膜要求靶材纯度很高，对碱金属、放射性元素等杂质含量要求也十分严格。 . . . 阅读全文
钼溅射靶材，即钼靶材，通常由钼粉经烧结而成。钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品。随着平面显示器行业和光伏行业的迅速发挥发展，钼溅射靶材的需求量越来越大。以下讨论钼溅射靶材在各行业中的应用。 1）在电子行业中，钼溅射靶材主要应用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。 2）在平面显示器行业中，钼溅射靶材的主. . . 阅读全文