怎样达到最高溅射速率？
由于溅射时靶材原子容易沿原子六方最紧密排列方向择优溅射出来，因此，为达到最高溅射速率，常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大，因此，获得一定结晶取向的靶材结构对薄膜的溅射过程至关重要。 . . . 阅读全文
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由于溅射时靶材原子容易沿原子六方最紧密排列方向择优溅射出来，因此，为达到最高溅射速率，常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大，因此，获得一定结晶取向的靶材结构对薄膜的溅射过程至关重要。 . . . 阅读全文
1. 金属靶材： 镍靶、Ni、钛靶、T溅射靶材i、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi 、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨. . . 阅读全文
1、微电子领域 在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是相当苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。 2、显示器用 平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT. . . 阅读全文
溅射靶材是靶材中的种，它的主要用途是用于电子产品，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、电子控制器件等平面显示以及工件表面涂层。也可用于玻璃镀膜域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 . . . 阅读全文
钼顶头是由钼钛锆碳合金制成的用于生产无缝钢管穿管机芯棒顶头的钼合金。用于穿孔无缝钢管，如不锈钢，钎钢，高温 合金钢，钼等殊类零件。 . . . 阅读全文
喷涂、烧结后的钨靶 , 具有 99% 的密度甚至更高、平均透明纹理的直径为 100um 甚至更小、含氧 20ppm 或更少，偏转角力为 500Mpa 左右的性 ; 提高未加工金属粉末的生产，提高烧结的能力，可以使钨靶的成本稳定在个低价位。烧结后的钨靶密度高，具有传统的压制烧结方法所无法达到的高水准的透明框架，并且明显改善了偏转角力，以致颗粒物显著的减少。 . . . 阅读全文
外观上可能不太好看出来 但是从断层面和截面可以看出来 . . . 阅读全文
高速电子轰击金属钴阴靶，产生X射线通过定的场穿透被摄物体，通过被摄物体的X射线有强有弱，轰击在终的感光物质或感光元件上，从而成像。 . . . 阅读全文
高纯钼电因其高温强度高、高温抗氧化性能好，使用寿命长，抗腐蚀及不易使玻璃着色等优点而广泛应用于日用玻璃、光学玻璃、保温材料、玻璃纤维等域... . . . 阅读全文
钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。 . . . 阅读全文