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靶材的制作方法及分类应用

[ 发布日期:2022-06-09 16:45:23 点击:134 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]

  靶材是在电子信息行业中经常使用到的一种材料,虽然它的用途广泛,但寻常大众对于这种材料都了解不深,许多人都很好奇靶材的制作方法是什么?它又是怎样分类的?下面四丰小编就给大家介绍下靶材的制作方法及分类应用

 

  一、靶材的制作方法

 

  1、铸造法

 

  铸造法是将一定成分配比的合金原料给熔炼起来,之后再将熔炼后得到的合金溶液浇到模具中,形成铸锭,再经过机械加工后就形成了靶材。铸造法一般需要在真空中熔炼铸造,常见的铸造方法有这几种:真空感应熔炼、真空电弧熔炼以及真空电子轰击熔炼,它的优点是制取的靶材杂质含量小,密度较高,能够大型化制作;缺点是如果是熔炼熔点和密度差别较大的两种及以上的金属时,常规的熔炼法很难制成成分均匀的合金靶材。

 

  2、粉末冶金法

 

  粉末冶金法是将一定成分配比的合金原料熔炼,之后再将熔炼后得到的合金溶液浇铸成铸锭,把浇成的铸锭粉碎,将粉碎后的粉末静压成型,然后高温烧结形成靶材。这样做成的靶材优点是成分均匀;缺点是密度低,杂质含量较高。经常用到的粉末冶金工业有冷压、真空热压以及热等静压这几种。

靶材 

  二、靶材的分类应用

 

  1、半导体关联靶材:

 

  电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材等。

 

  储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。

 

  粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。

 

  电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。

 

  2、磁记录靶材:

 

  垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。

 

  硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。

 

  薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。

 

  人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。

 

  3、光记录靶材:

 

  相变光盘记录薄膜:硒化碲靶材,硒化锑靶材,锗锑碲合金靶材,锗碲合金靶材等。

 

  磁光盘记录薄膜:镝铁钴合金靶材,铽镝铁合金靶材,氧化镁靶材,氮化硅靶材等。

 

  光盘反射薄膜:铝靶材,铝钛合金靶材,铝铬合金靶材,金靶材,金合金靶材等。

 

  光盘保护薄膜:氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化锌靶材等。

 

  以上就是四丰小编对靶材的制作方法及分类应用的全部介绍,靶材经常用于电子信息领域,比如用于显示器中,微电子中,或存储技术上,如果您还想了解更多有关靶材的资讯,可以向洛阳高新四丰电子材料有限公司留言咨询。