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如何提高溅射钼靶材利用率?

[ 发布日期:2021-09-10 15:32:03 点击:610 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]
  溅射钼靶材因其自身优点,已经在电子行业、太阳能电池、玻璃镀膜等方面得到了广泛的应用。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展,钼靶材的用量将持续增长,对其质量要求也必将越来越高。所以有必要对钼靶材的利用率进行提高,下面四丰小编就来介绍几点提高溅射钼靶材利用率的措施。
  

  如何提高溅射钼靶材利用率

  

  1、背面加电磁线圈

  平面钼靶
  想提高溅射钼靶材的利用率,可以在平面的磁控溅射钼靶材的背面加上一圈电磁线圈,通过电磁线圈的电流来改变钼靶材表面的磁场大小,以提高钼靶材的利用率。除提高利用率外,还能提高溅射效率。
  

  2、采用管状旋转靶材

  旋转钼靶材
  相比平面靶材,采用管状旋转靶材结构的设计显示出它的实质性优势,一般平面靶材的利用率低,仅为仅为30%~50%,所以现在很多厂家都在应用旋转空心圆管磁控溅射靶,其优点是靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转,靶面360°可被均匀刻蚀,其利用率可从平面靶材的30% ~ 50%增加到80%以上。此外,旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍。由于旋转靶材在溅射过程中不停的旋转,在它的表面不会产生重沉积现象。
  

  3、更换新型溅射设备

  
  提高靶材利用率的关键在于实现溅射设备的更新换代。钼溅射靶材在溅射过程中靶材原子被氢离子撞击出来后,约由六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上,增加清洁真空设备的费用及停机时间。所以设备的更新也有助于提高溅射钼靶材的利用率。
  
  上述就是对如何提高溅射钼靶材利用率的回答,要提高钼溅射靶材的利用率和溅射效率,一种是背面加电磁线圈,另一种是改平面靶材为管状旋转靶材,还有就是通过更新换代溅射设备和增加靶材规格。随着电子行业及太阳能电池的发展,钼靶材作为高附加值电子材料的用量在逐年增加,所以提高提高溅射钼靶材利用率是很有必要的一项措施。四丰电子材料可提供高纯度的钼靶材,如果您有需要,欢迎在我们网站留言或来电联系四丰详询。