溅射靶材是干什么的

溅射靶材是安装在真空镀膜机上镀膜用的，可镀导电膜、缘膜、装饰膜，超硬膜、润滑膜、磁性膜等功能薄膜。

【什么是靶材】

靶材就是目标材料。用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏应。用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材。

【什么是溅射靶材】

磁控溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜方式,较之较早点的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。作为项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多域。

【应用域】

1:微电子域

2:平面显示器用靶材

3:存储技术用靶材

靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关,随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进,靶材技术也应随之变化。如I制造商近段时间致力于低电阻率铜布线的开发,预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜,这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外,近年来平面显示器(FPD)大幅度取代原以阴射线管(CRT为主的电脑显示器及电视机市场亦将大幅增加ITO靶材的技术与市场需求。

此外在存储技术方面溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等亦可应用于玻璃镀膜域还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。