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钼溅射靶材在TFT-LCD基板玻璃行业有什么应用?

[ 发布日期:2018-03-29 点击:222 来源:洛阳高新四丰电子材料有限公司 【打印此文】 【关闭窗口】]

近年来,随着韩国、日本和台湾的液晶面板产业逐步向中国大陆聚集,同时国内多条G8.5及以上高世代液晶面板建设投产,我国液晶面板显示技术得到飞速发展。液晶显示面板下游应用广泛,目前主要需求集中在液晶电视、平板电脑、智能手机、车载显示屏等领域,随着工业4.0和消费水平升级,可穿戴电子产品、人工智能、智慧城市等新兴行业都是未来的增量点。尤其是在互联网的普及以及物联网的快速发展下,显示屏作为人机交互最主要的方式,其市场规模正在随着终端设备数量和显示面积的增加而不断扩大。

溅射靶材 

靶材的作用很多,而且市场发展空间较大,它在很多领域都有很好的用途。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,

 靶材

提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。

 <a href='http://www.lysifon.com/' target='_blank'>钼靶材</a>

一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。

 

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